یکی از روش‌های لایه‌نشانی، روش رسوب‌دهی بخار شیمیایی (CVD) است. این روش بر مبنای تجزیه و یا واکنش‌های شیمیایی از واکنش‌گرهای گازی در یک محیط فعال شده (گرما، نور و پلاسما) برای ایجاد یک پوشش جامد پایدار است. با این روش می‌توان موادی در مقیاس نانومتری و با خلوص بالا به صورت تک‌لایه، چندلایه، کامپوزیت نانوساختار و پوشش‌هایی با کنترل ابعادی بسیار عالی و ساختار یکنواخت در فشارهای پایین تولید کرد.
این روش یکی از مهم‌ترین روش‌های پوشش‌دهی است که امروزه با توجه به مزایا و معایبی که دارد، کاربردهای آن در حوزه صنعتی بسیار گسترده شده است.
روش رسوب‌دهی بخار شیمیایی در دماهای بالا و فشار پایین انجام می‌گیرد. سه مرحله اصلی این روش‌ها عبارتند از واکنش سطحی، نفوذ، واجذب.
CVD براساس نوع منبع گرمایی، دما و فشار اتاقک به چندین روش تقسیم می‌شود. هریک از این روش‌ها براساس هزینه موردنیاز، یک‌نواختی پوشش، قابلیت ایجاد لایه، کنترل مشخصه لایه‌نازک، تولید می‌شود و دارای مزایا و معایب هستند.
امروزه با رشد فناوری نانو و تولید نانومواد و استفاده از آن‌ها در صنعت، صنعتگران به رقابت در تولید سیستم‌های تولیدی نانومواد در تولید انبوه می‌پردازند. خوشبختانه کشور ما در این صنعت رو به پیشرفت است.
