لیتوگرافی نوری متداول‌ترین روش تولید نیمه‌هادی‌هاست. اصول کلی لیتوگرافی نوری شبیه فرایند عکاسی است. در این روش از یک پرتو نور برای انتقال یک الگوی هندسی از ماسک به یک ماده مقاوم در برابر نور یا لایه محافظ که روی یک ویفر پوشش داده شده، استفاده می‌شود. پس از آن یک مجموعه فرایندهای شیمیایی باعث انتقال الگو به ویفر می‌شوند. در این روش کنترل مناسبی بر شکل و اندازه الگوهای ایجاد شده وجود دارد و الگو به‌صورت هم‌زمان در تمام سطح ویفر چاپ می‌شود. این فرایند باید در محیط بسیار پاکیزه انجام شود و تنها قابلیت ایجاد الگو بر ویفرهای مسطح وجود دارد.
