فرایند لایهنشانی دورانی یکی از روشهایی متداولی است که برای ایجاد لایههای نازک با ضخامتهایی در محدوده میکرومتر تا نانومتر به کار میرود. در این دستگاه که در سه مدل عرضه شده است، یک ویفر سیلیکونی روی یک صفحه دوار قرار میگیرد و به کمک مکش خلأ روی صفحه دوار ثابت میشود تا در هنگام چرخش سریع به اطراف پرتاب نشود. برای لایهنشانی مقدار معینی از محلول موردنظر روی مرکز زیرلایه ریخته میشود. تزریق ماده معمولاً با دو روش استاتیک یا دینامیک انجام میشود. سپس دستگاه با یک شتاب زاویهای موردنظر سرعت میگیرد. با چرخش زیرلایه و بهوجودآمدن نیروی گریزازمرکز، ماده پوشش در تمام سطح زیرلایه پخش میشود. در نتیجه مازاد ماده پوشش بر اثر نیروی گریزازمرکز، از روی سطح زیرلایه به اطراف پراکنده میشود. این روش باعث ایجاد یک لایه یکنواخت روی بخش وسیعی از سطح زیرلایه میشود.
