دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی بخار

ایه‌نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از روش‌های مناسب برای ایجاد لایه‌های نازک، تولید پودرها، الیاف و… است. این فرایند بر اساس پارامترهای مختلفی همچون فشار کاری، مشخصات فیزیکی فاز بخار و نوع روش ایجاد پلاسما تقسیم‌بندی می‌شود. دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی بخار حاضر در دو مدل با مشخصات فنی متفاوت تولید می‌شود و شامل سیستم انتقال گاز، محفظه واکنش، مکانیزم قراردهی زیرلایه و ویفر، منبع انرژی، سیستم خلأ و سیستم خروجی است. فرایند لایه‌نشانی شیمیایی بخار بدین صورت است که ابتدا بخار ماده موردنظر به‌همراه گاز حامل به‌سمت سطح ویفر منتقل و واکنش‌های شیمیایی روی سطح ویفر انجام شده، سپس واکنش‌های انجام شده روی سطح موجب تشکیل یک لایه نازک می‌شود و در نهایت مواد فرار موجود از روی سطح جدا می‌شوند. معمولاً پوشش‌هایی که به روش لایه‌نشانی شیمیایی بخار ایجاد می‌شوند، دانه‌ریز، خالص، غیرقابل‌نفوذ و سخت‌تر از نمونه‌های سرامیکی ایجادشده با روش‌های متداول هستند.