دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PACVD)، در سه مدل با مشخصات فنی متفاوت، ساخته شده است. نمونه‌ها ابتدا در محیط پلاسمای گاز خنثی مانند آرگون، تمیزکاری سطحی شده و دمای آن‌ها تا مقدار مورد‌نظر افزایش می‌‌یابد. سپس گازهای واکنش‌گر که مخلوطی از گازهای نیتروژن، هیدروژن، آرگون و TiCl4 با نسبت‌های معین است وارد محفظه میشود؛ در نهایت لایه‌نشانی با کنترل پارامترهایی همچون دما، زمان، فشار، فرکانس و عرض پالس صورت می‌گیرد. استفاده از این روش ساخت پوشش‌های تک‌لایه یا چند‌لایه دوتایی، سه‌تایی و چهارتایی نظیر TiN،TiC ،CNTi TiAlN،TiBN،TiAlCN و… را امکان‌پذیر می‌‌کند. از جمله مزیت‌های این روش، امکان انجام فرایند نیتراسیون و متعاقب آن فرایند لایه‌نشانی است که باعث ایجاد پوشش‌های فوق‌سخت میشود. همچنین این روش ضمن حفظ کیفیت لایه‌نشانی دارای سرعت لایه‌نشانی بالاتری در مقایسه با سایر روش‌هاست.
