لایهنشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) یک نوع ویژهای از روش لایهنشانی شیمیایی از فاز بخار است که در آن به کمک پلاسما همه واکنشهای CVD تحتتأثیر قرار میگیرد و این امکان را فراهم میسازد که واکنشهای فوق بهصورت خیلی مؤثرتری در دماهای به نسبت پایینتری انجام شود. ایجاد پوشش TiN با استفاده از این روش توسط شرکت پلاسما پژوه پارس، انجام میپذیرد.
در این روش، استفاده از پلاسما دمای انجام واکنشهای CVD را تا مقادیر بین ۲۰۰ تا ۴۰۰ درجه سانتیگراد کاهش میدهد، در حالی که دمای کاری روشهای پیشین CVD، در محدودهٔ دمایی ۴۲۵ تا ۹۰۰ درجه سانتیگراد است. استفاده از پلاسما دامنه گسترش روشهای CVD را به قدری گسترش میدهد که پوششدهی همه مواد هادی و غیرهادی بهوسیله آن امکانپذیر میشود.
دستگاه لایهنشانی شیمیایی بخار به کمک پلاسما
توضیحات
اطلاعات بیشتر
| تولیدکننده | |
|---|---|
| استان محل تولید | |
| شهر محل تولید |
