تبخیر به کمک باریکه الکترونی (Electron Beam Evaporation) یکی از روشهای لایهنشانی فیزیکی بخار است که در آن تارگت (ماده مورداستفاده برای پوشش) در داخل یک محفظه تحت خلأ بالا توسط یک پرتو الکترونی گسیل شده از یک فیلامان تنگستنی تبخیر شده و به حالت گازی تبدیل میشود. در ادامه اتمها یا مولکولهای تبخیر شده بر روی زیرلایه رسوب کرده و لایه نازکی از ماده پوشش موردنظر روی زیرلایه ایجاد میکنند. از آنجایی که در این روش امکان انتقال مستقیم انرژی به سطح ماده هدف (تارگت) توسط پرتو الکترونی وجود دارد، این فرایند انتخابی ایدئال برای تبخیر مواد با نقطه ذوب بالا خواهد بود. این روش دارای نرخ رسوبدهی قابلملاحظه بوده (0٫1 تا ۱۰۰ نانومتر بر دقیقه) که میتواند پوششهای متراکم با قابلیت چسبندگی بالا به زیرلایه ایجاد کند.
