دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی بخار به کمک پلاسما

لایه‌نشانی شیمیایی بخار پلاسمایی (PECVD) نوعی فرایند CVD است که حضور محیط پلاسما همه فرایندهای CVD را تحت‌تأثیر قرار می‌دهد و سرعت و بازدهی انجام واکنش‌های مرتبط را در دماهای به نسبت پایین‌تر (نسبت به استفاده از فرایند CVD بدون حضور پلاسما) را افزایش و ارتقا می‌دهد. در این فرایند، نمونه‌ها ابتدا در محیط پلاسمای گاز خنثی مانند آرگون، تمیزکاری سطحی شده و دمای آن‌ها تا مقدار موردنظر افزایش می‌یابد. سپس گازهای واکنش‌گر که مخلوطی از گازهای نیتروژن، هیدروژن، آرگون و TiCl4 با نسبت‌های معین است وارد محفظه می‌شود؛ در نهایت لایه‌نشانی با کنترل پارامترهایی همچون دما، زمان، فشار، فرکانس و عرض پالس صورت می‌گیرد. استفاده از این روش ساخت پوشش‌های تک‌لایه یا چند‌لایه دوتایی، سه‌تایی و چهارتایی نظیر TiN ،TiC ،CNTi ،TiAlN TiBN ،TiAlCN و… را امکان‌پذیر می‌کند. این روش اغلب برای تولید نانولوله‌های کربنی استفاده می‌شود.