ایه‌نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از روش‌های مناسب برای ایجاد لایه‌های نازک، تولید پودرها، الیاف و… است. این فرایند بر اساس پارامترهای مختلفی همچون فشار کاری، مشخصات فیزیکی فاز بخار و نوع روش ایجاد پلاسما تقسیم‌بندی می‌شود. دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی بخار حاضر در دو مدل با مشخصات فنی متفاوت تولید می‌شود و شامل سیستم انتقال گاز، محفظه واکنش، مکانیزم قراردهی زیرلایه و ویفر، منبع انرژی، سیستم خلأ و سیستم خروجی است. فرایند لایه‌نشانی شیمیایی بخار بدین صورت است که ابتدا بخار ماده موردنظر به‌همراه گاز حامل به‌سمت سطح ویفر منتقل و واکنش‌های شیمیایی روی سطح ویفر انجام شده، سپس واکنش‌های انجام شده روی سطح موجب تشکیل یک لایه نازک می‌شود و در نهایت مواد فرار موجود از روی سطح جدا می‌شوند. معمولاً پوشش‌هایی که به روش لایه‌نشانی شیمیایی بخار ایجاد می‌شوند، دانه‌ریز، خالص، غیرقابل‌نفوذ و سخت‌تر از نمونه‌های سرامیکی ایجادشده با روش‌های متداول هستند.
