مروری بر کاربردها و فناوری‌های به‌روز دستگاه رسوب‌دهی بخار شیمیایی (CVD)

مروری بر کاربردها و فناوری‌های به‌روز دستگاه رسوب‌دهی بخار شیمیایی (CVD)

یکی از روش‌­های لایه‌نشانی، روش رسوب‌دهی بخار شیمیایی (CVD) است. این روش بر مبنای تجزیه و یا واکنش‌­های شیمیایی از واکنش‌گرهای گازی در یک محیط فعال شده (گرما، نور و پلاسما) برای ایجاد یک پوشش جامد پایدار است. با این روش می­‌توان موادی در مقیاس نانومتری و با خلوص بالا به صورت تک‌لایه، چندلایه، کامپوزیت نانوساختار و پوشش‌­هایی با کنترل ابعادی بسیار عالی و ساختار یکنواخت در فشار­های پایین تولید کرد.

این روش یکی از مهم‌­ترین روش‌­های پوشش‌­دهی است که امروزه با توجه به مزایا و معایبی که دارد، کاربردهای آن در حوزه صنعتی بسیار گسترده شده است.

روش رسوب‌­دهی بخار شیمیایی در دماهای بالا و فشار پایین انجام می­‌گیرد. سه مرحله اصلی این روش‌­ها عبارتند از واکنش سطحی، نفوذ، واجذب.

CVD براساس نوع منبع گرمایی، دما و فشار اتاقک به چندین روش تقسیم می‌­شود. هریک از این روش‌­ها براساس هزینه موردنیاز، یک‌نواختی پوشش، قابلیت ایجاد لایه، کنترل مشخصه لایه‌نازک، تولید می­‌شود و دارای مزایا و معایب هستند.

امروزه با رشد فناوری نانو و تولید نانومواد­ و استفاده از آن­‌ها در صنعت، صنعت­گران به رقابت در تولید سیستم‌های تولیدی نانومواد در تولید انبوه می‌­پردازند. خوشبختانه کشور ما در این صنعت رو به پیشرفت است.